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以后3D NAND要堆多少層?
來源:互聯(lián)網(wǎng)   發(fā)布日期:2024-06-27   瀏覽:375次  

導(dǎo)讀:一直對3D NAND要堆多少層有執(zhí)念,或許和癡迷過疊大樓游戲有關(guān),即便是簡單的疊高樓游戲,也很考驗人的耐心和定力,堆疊更是一門技術(shù)活了。事實上,閃存發(fā)展史從堆疊角度也可以看到一些變化:從1967年浮柵MOSFET出現(xiàn)到2008年,閃存都是基于2D NAND, ......

一直對3D NAND要堆多少層有執(zhí)念,或許和癡迷過疊大樓游戲有關(guān),即便是簡單的疊高樓游戲,也很考驗人的耐心和定力,堆疊更是一門技術(shù)活了。事實上,閃存發(fā)展史從堆疊角度也可以看到一些變化:從1967年浮柵MOSFET出現(xiàn)到2008年,閃存都是基于2D NAND,2008年,東芝開發(fā)了3D NAND結(jié)構(gòu)的BICS,2013年,三星正式推出24層3D V-NAND,并在FMS上展示了1TB SSD,平房變高樓,此刻,屬于3D NAND的“疊疊樂”時代才正式開始。

從最初的24層開始,到32層,再到64層,大約經(jīng)過三四年時間,2017年前后,96層NAND開始出現(xiàn),之后進入百層時代,128層、144層、212層、238層…到2023年,一些廠商都要卷300層+了,但這個300層是不是真正的300層其實不一定。

在這場3D NAND技術(shù)競賽里,堆疊層數(shù)被視為其中一個制高點。大家堆得層數(shù)越來越高,方法卻不盡相同。目前市場上有兩種堆疊方式:字符串堆疊( String stack)和單一堆疊(Single stack)。

單一堆疊(Single stack)相當(dāng)于原生垂直堆疊1xx+,僅一道工序,有成本優(yōu)勢。但制程復(fù)雜度隨層數(shù)攀升不斷加大,蝕刻和沉積最終可能導(dǎo)致裸片良品率下降,包括交疊層厚薄不均、蝕刻不徹底(打孔未到達(dá)底部)、彎曲、扭曲及線寬變化。還有其間電子垂直通過的遷移率也在隨層數(shù)增加而更加不可控。

而字符串堆疊( String stack,目前主要指雙層堆疊),制程復(fù)雜度相對較低,只要擁有48層或者64層技術(shù),那么就可以實現(xiàn)96(2*48)層、128(2*64)層,還降低了打孔的蝕刻深度,良品率不會受到影響,但需要兩道工序,會增加30%+的成本。

另外還有長江存儲,另辟蹊徑的Xstacking技術(shù),是一種晶圓鍵合(Wafer bonding)而非堆棧方式。一片晶圓上加工負(fù)責(zé)數(shù)據(jù)I/O及記憶單元操作的外圍電路,另一片晶圓上加工存儲單元,最終通過數(shù)百萬根金屬VIA(垂直互聯(lián)通道)將二者鍵合接通電路。近年來也有其他廠商開始使用類似的方式。

當(dāng)然,大家為了追求更高層數(shù),很更傾向于字符串堆疊,推出速度快,容量更大,層數(shù)還高。

如今隨著AI、5G、物聯(lián)網(wǎng)等新興技術(shù)的發(fā)展,我們對高容量、高性能存儲需求激增,會推動3D NAND層數(shù)繼續(xù)增加。

未來幾年,在出現(xiàn)可替代的存儲新介質(zhì)之前,3D NAND的堆疊層數(shù)應(yīng)該還會繼續(xù)攀升,400層甚至更高層的3D NAND可能成為出現(xiàn),而混合使用字符串堆疊和晶圓鍵合技術(shù),進一步提升存儲容量和性能也將繼續(xù)。

8月28日,全球閃存峰會將在南京召開,大會也將共同探討3D NAND技術(shù)的發(fā)展趨勢與未來走向,期待大家的積極參與,共同推動閃存技術(shù)的蓬勃發(fā)展。

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